硅晶片表面光阻薄膜厚度测量(uv) | 岛津分析检测-乐鱼apo

很多方法都可以用来测量薄膜的厚度。这些方法中,紫外可见分光光度计提供了简便的、对薄膜厚度不造成损害的测量方式。

对硅片上两个不同厚度的光阻层(0.5 µm, 3.0 µm)进行测量。结果发现,薄膜越薄,波的周期越长,反之亦然。

紫外可见分光光度计

允许对所有种类的薄膜进行简易的并且不造成薄膜厚度损害的测量。从薄膜的前后表面反射出的光相互交叉形成一个干涉图。在一定波长范围内,薄膜的厚度可通过光谱上波的数量计算得到(在物质的折射率已知的情况下)。

 

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